FCVA镀膜机
FCVA镀膜设备采用独立的上料腔与镀膜腔设计，有效缩短抽真空循环时间，并降低交叉污染风险。该系统专为玻璃镜片模具及高精度零部件的无颗粒镀膜而设计，可同时支持碳源与金属源配置。
系统搭载纳峰科技（NTI Nanofilm）专有 TAC-ON® 材料体系，可稳定沉积超光滑类金刚石碳（DLC）涂层，在硬度、附着力与综合性能方面表现卓越，深受全球领先光学镜片制造商信赖。
核心特点
采用先进的 FCVA（过滤阴极真空电弧）技术，有效过滤大颗粒与杂质，沉积高致密、低缺陷的薄膜结构，显著提升涂层硬度、表面平整度与稳定性，特别适用于高精度光学模具与精密零部件。
FCVA 技术
实现卓越的镀膜性能与高致密度涂层结构
碳源或金属源配置
拓展涂层类型，满足多样化应用需求
离子束或磁控溅射
灵活配置，适配不同工艺路线
独立真空腔体设计
减少真空等待时间，提高整体产能
旋转式基材载台
支持角度倾斜，提升涂层均匀性
人性化操作界面
操作简便，易于控制与维护
技术规格
| 配置项 | 说明 |
|---|---|
| 真空腔体 | 上料腔与工艺腔分离式结构（Load Lock + Process Chamber） |
| FCVA 碳源 | FS2 全自动 TAC-ON® 碳源系统 |
| FCVA 金属源 | 可根据应用需求配置 |
| 磁控溅射源 | 可根据应用需求配置 |
| 离子束源 | 高能氩离子束轰击处理 |
| 基材载台 | 自旋转、可加偏压；最大镀膜尺寸 Ø300 mm（6" / 10" / 12"） |
| 高真空泵 | 工艺腔 ≥ 2000 L/s；上料腔 600 L/s |
| 机械（前级）真空泵 | 40 m3/hr 双级旋片泵 |
| 控制柜 | 风冷式 19 英寸标准控制柜 |
| 压力控制 | 离子规 + 热偶规；双质量流量控制器（MFC） |
| 系统控制 | PLC 控制系统，安全联锁设计；PC + 触控屏操作界面 |
| 观察窗 | Ø100 mm 观察窗，腔门带遮挡装置 |
| 设备尺寸 | 约 1.7（L）× 1.2（W）× 2.0（H）m |
应用领域
常见问题 (FAQ)
纳峰科技镀膜设备的主要优势是什么？
我们在真空镀膜 / 物理气相沉积（PVD）/ 薄膜镀膜设备的工程设计与制造领域拥有超过 25 年经验，是行业内的领先企业。
作为集镀膜设备与镀膜服务于一体的综合解决方案提供商，我们在实际镀膜服务中的长期经验，使我们能够将第一手工艺认知转化为更贴合客户量产需求的先进设备设计。
纳峰科技是您值得信赖的一站式合作伙伴，可提供从镀膜设备、沉积源材料、蒸发源、备品备件到完善售后服务的完整支持。
你们的镀膜设备支持哪些蒸发方式？
我们的设备产品组合涵盖 离子束（Ion Beam）、磁控溅射（Magnetron Sputtering） 以及 过滤阴极真空电弧（FCVA）PVD 等多种蒸发方式。
其中，FCVA（过滤阴极真空电弧） 为纳峰科技的专有技术，属于等离子体蒸发工艺，可实现更精准的工艺控制与更高一致性的镀膜效果，适用于多种基材与高要求应用。
镀膜设备可适用于哪些基材？
我们的镀膜设备可处理多种基材，包括：
- 金属（不锈钢、铜、铝）
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合金材料
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高分子材料（塑料）
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陶瓷材料
基材的最大尺寸是多少？
我们可提供腔体尺寸最大达 1.5 m × 1.5 m 的镀膜设备。
基材的最大可镀尺寸将根据其具体形状与装载方式而定。
设备可镀哪些类型的涂层？
我们的设备可沉积多种功能与光学涂层，包括：
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类金刚石碳（DLC）涂层
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光学滤光膜
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减反射（AR）涂层
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导电涂层
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疏水涂层
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多层复合涂层