随着半导体封装技术不断演进、工艺温度超过 265 °C,引线框架载具已不再仅仅承担基础的机械支撑功能。在现代高产量制造中,载具需要具备热稳定、低粘附的表面性能,以在反复的模塑、回流焊、烘烤与退火过程中保持一致、可靠的脱模表现。为维持产能与良率,制造商愈发依赖能够保持表面完整性、降低变形风险并减少维护频率的涂层解决方案,同时不牺牲生产效率与封装品质。
不断提升的热负载与机械应力暴露了半导体封装中传统载具涂层的局限性。在反复的高温循环下,许多常规解决方案难以维持稳定的附着控制、结构完整性与长期可靠性。
聚合物基涂层在高温下软化,表面粘附力上升,导致引线框架在脱模过程中发生粘连、撕裂或变形。
热疲劳加速 PTFE、硅胶、PVD 及氧化物涂层的开裂、剥落与侵蚀,缩短涂层寿命并降低一致性。
涂层性能退化会引发频繁清洗、非计划停机、报废率上升以及运营成本增加,直接影响整体制造效率。
F-TAC® 是 NTI Nanofilm 专为高温、高产量半导体制造而开发的含氟薄膜涂层。通过 FCVA(过滤阴极真空弧) 技术沉积,F-TAC® 形成致密、均匀且应力可控的纳米薄膜,在 265 °C 以上依然保持可靠的防粘性能。
含氟表面赋予涂层超低表面能与低摩擦特性,可在模塑及热循环过程中有效防止粘附、氧化与环氧树脂堆积。不同于聚合物基涂层,F-TAC® 在高温下不会软化或开裂,能够保持结构完整性,确保稳定的脱模表现与更长的使用寿命。
下表对比了 F-TAC® 氟化薄膜涂层载体与未涂层载体在高温半导体封装制程中的关键性能差异,涵盖不粘性、热稳定性、磨损、污染控制、维护频率及良率影响,清晰展示 F-TAC® 在高温量产环境下的稳定性与可靠性优势。
| 性能指标 | F-TAC® 涂层 | 未涂层 |
|---|---|---|
| 表面表现 | 具氟化纳米薄膜的洁净不粘表面 | 模封过程中易粘附并产生环氧树脂堆积 |
| 热稳定性 | 在 265 °C 以上仍保持稳定性能 | 在 250 °C 以上易失效 |
| 摩擦与磨损 | 低摩擦,机械磨损更低 | 高摩擦,表面易刮伤 |
| 污染控制 | 抗粘附与抗氧化 | 模封树脂与颗粒易频繁堆积 |
| 维护频率 | 载体寿命更长,清洗周期更少 | 需要频繁清洗与更换 |
| 良率影响 | 更高制程良率与一致的载体品质 | 键合一致性下降,良率降低 |
在 265 °C 以上仍能保持稳定的防粘表现,不发生性能退化。
有效减少脱模过程中的粘连、撕裂与表面损伤。
水接触角 >110°,确保持久的防粘性能。
使用寿命较 PTFE、PVD、硅胶及氧化物涂层提升 3–5 倍。
减少清洗频率,延长载具使用寿命。
稳定的脱模表现有助于提高键合一致性并降低报废率。
传统的聚合物基涂层及标准 PVD 涂层在高温条件下容易发生退化、软化或开裂,导致粘连和表面损伤
F-TAC® 是一种基于 FCVA 技术沉积的含氟薄膜涂层,可在 265 °C 以上保持稳定性能,在不发生聚合物退化的情况下提供持久的防粘效果。
可以。其低表面能特性可显著减少环氧树脂堆积,延长清洗周期并提升载具使用寿命。
是的。NTI 可根据不同载具基材与制程需求,提供可定制化的涂层参数与性能配置。
FCVA 可沉积致密、附着力强且低内应力的薄膜,在极端工况下有效抵御开裂、分层与热疲劳。