装饰性涂层
我们的装饰性涂层解决方案可在不锈钢基材上沉积复合材料或碳基涂层，提供丰富多样的色彩选择，赋予产品高端精致的外观效果。得益于底层 TAC 涂层的加持，相较于其他方案，该解决方案具备更优异的耐刮擦性能。
导电耐腐蚀涂层
我们的导电耐腐蚀解决方案采用环保、具专利的 FCVA 与溅射技术，沉积无氢碳基与金属涂层，在不锈钢、铝及红铜等关键电气组件表面形成高效的耐腐蚀保护层，可显著降低腐蚀电流，延长产品使用寿命，并提升整体性能。
该方案是电镀工艺的绿色替代选择，在提供可靠防护的同时，更加友善环境，守护地球。
AR 抗反射涂层
我们的 AR 抗反射涂层解决方案采用离子束与溅射技术，在多种玻璃基材（包括石英玻璃与硫系玻璃）表面沉积超薄涂层，实现所需的表面硬度、光学反射率或透过率，以满足不同产品的性能需求。
常见问题 (FAQ)
NTI Nanofilm 的薄膜涂层可解决哪些半导体制造挑战？
NTI Nanofilm 的先进薄膜涂层可应对设备磨损、污染、静电放电（ESD）及制程效率等关键挑战。我们的 DLC、含氟涂层与纳米晶涂层 可提升耐久性、减少缺陷并延长部件寿命，帮助实现更高良率、更优成本效益与更稳定的制程。
FCVA 技术如何提升半导体涂层性能？
专有的 过滤式阴极真空电弧（FCVA） 技术可沉积 超致密、高纯度 薄膜，具备 高硬度、低摩擦与优异附着力。相较传统 PVD 或 CVD，FCVA 可形成更平滑、抗污染的表面，适用于研磨载具、晶圆 e-chuck、引线框架与线焊工具，从而提升制造效率并减少停机。
TAC-ON®（ta-C）涂层在半导体应用中的优势是什么？
TAC-ON®（四面体非晶碳）涂层具备 极高硬度、卓越耐磨性与超低摩擦，可显著延长关键晶圆制程与封装部件的使用寿命，减少缺陷、降低污染并优化良率，特别适用于高精度应用。
NTI Nanofilm 的防静电（ASD）涂层如何防止 ESD 相关失效？
ASD（防静电放电）涂层提供 可定制表面电阻率（10⁵–10⁹ Ω/□），有效保护敏感的半导体工具、引线框架与晶圆载具免受静电损伤。通过抑制静电积累与颗粒污染，ASD 涂层可提升组件可靠性、良率稳定性与制造效率。
半导体制造商如何通过 NTI Nanofilm 的涂层降低总体拥有成本（TCO）？
NTI Nanofilm 的高性能薄膜涂层可 延长设备寿命、降低维护成本、提升制程一致性并减少材料浪费。通过优化设备性能、提升良率并减少缺陷，帮助半导体制造商显著降低 总体拥有成本（TCO），实现更高的运营效率与成本节约。